KRTS MX80M系列金相顯微鏡多檔分光比觀察頭設計全新系列觀察筒，采用寬光束成像系統設計，支持26.5mm超寬視野觀察，帶給您全新的大視野體驗。兩檔式正像鉸鏈三目觀察筒，保證樣品的移動方向與您通過目鏡觀察到的方向一致，使操作更加得心應手。三檔式鉸鏈三目觀察筒，在成像光線100%用于雙目觀察或三目攝影的基礎上，增加一檔20%用于雙目觀察，80%用于顯微攝影，方便用戶同時對鏡下圖像與視頻圖像進行對比觀察；
偏振系統偏振系統包括起偏器和檢偏器，可做偏光檢測，在半導體和PCB檢測中，可消除雜光，細節更清楚。檢偏器分為固定式檢偏器和360度旋轉式檢偏器。360°旋轉式檢偏器可在不移動標本的情況下，方便的觀察標本在不同偏振角度光線下呈現的狀態?？稍谄裣到y的基礎上加載微分干涉器，建立諾曼爾斯基微分干涉襯比系統。
諾曼爾斯基微分干涉襯比系統U-DICR微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來，如LCD導電粒子，精密磁盤表面劃痕等。
中性密度濾色鏡連動明暗場觀察設計照明器前端的撥桿可使明暗場觀察切換更加方便，并帶有中性密度濾色鏡（ND50）聯動功能。由于暗場觀察時通常需要將光源開得比明場觀察更亮，此功能設計可以避免用戶在由暗場切換至明場時，眼睛不會受到強光的刺激，提高使用的舒適性。
物鏡轉換器，多孔可選多孔物鏡轉換器可以對同一個標本的觀測點進行連續的更加合理的低、中、高放大倍率觀察。全新的物鏡轉換器將光軸與轉動軸之間的夾角降低到15°，提高了對中精度和齊焦精度，且外觀更加緊湊。
光學系統
同步設計了全套明暗場兩用物鏡，暗場照明亮度比傳統暗場物鏡提高 2 倍以上。采用全新設計的長工作距物鏡、半復消色差技術，多層寬帶鍍膜技術，采用長壽命LED光源，配合多種高度功能化的附件，50X 物鏡的有效工作距離 7.9mm，100X 物鏡的有效工作距離也達到了 2.1mm，更有20X 超長工作距金相物鏡，大幅拓展了 MX 機型的應用領域。，能滿足各種檢驗需要，可用于明場、簡易偏光、微分干涉觀察，專為LCD行業 / TFT玻璃 / COG導電粒子壓痕、粒子爆破檢查。

移動平臺
8英寸三層機械移動平臺，低手位 X、Y 方向同軸調節 ；平臺面積 525×330mm，行程210×210mm，玻璃載物臺板 ；帶離合器手柄，可用于全行程范圍內快速移動 ；玻璃載物臺板（透、反射用）。

反射照明器
單顆大功率5W白色LED照明，帶斜照明機構。切換至斜照明時，可以使物體表面不同材質部分呈現立體圖案，增加觀察的對比度與視覺效果。

豐富的觀察方式，滿足您的檢測需求

明場觀察：遠心柯拉反射照明系統，配以全新設計的無限遠長工作距平場消色差金相物鏡，從低倍到高倍，都能得到清晰、平坦、明亮的高畫質顯微圖像。

暗場觀察：將暗場照明拉桿拉到指定位置，即可使用暗場功能，可以觀察物體表面的各種劃痕、雜質點及其他細微缺陷。內置衰減片，減少明暗場切換時光線劇烈變換對眼睛的刺激。

簡易偏光觀察：將起偏鏡及檢偏鏡插板插入照明器的指定位置，即可進行簡易偏光觀察。檢偏鏡可分為固定式和 360°旋轉式兩種。

DIC 微分干涉觀察：在正交偏光的基礎上 , 插入 DIC 棱鏡，即可進行 DIC 微分干涉觀察。使用 DIC 技術 , 可以使樣品表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，提高圖像的對比度?？善ヅ鋷?DIC 功能的物鏡，使整個視場的干涉色一致，微分干涉效果非常出色 , 高倍物鏡 DIC 效果也較好。

U-DICR 微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來，如LCD 導電粒子，精密磁盤表面劃痕等。

攝影 / 攝像附件

在三目觀察筒上，可以配接攝影攝像裝置，將雙目觀察到的圖像輸出至監視器或計算機，進行圖像分析、處理、保存或傳送。使用專用的 C 接口與中繼鏡，可以和數碼相機聯接，快速進行拍照，并獲取圖像。